產(chǎn)品介紹
激光加熱器利用激光直接加熱樣品臺或樣品,，加熱功率集中,，對真空的影響??；升溫/降溫速率快,；特別適用于具有氧氣的氛圍,。激光加熱器可用于脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD）,分子束外延系統(tǒng)（MBE）,磁控濺射（Sputter）,電子束蒸發(fā)（EBE）等超高真空系統(tǒng)設(shè)備,。
主要技術(shù)參數(shù)：
1）加熱溫度不低于1500℃（適用于氧氣環(huán)境）
2）紅外測溫儀實時監(jiān)控溫度
3）溫度穩(wěn)定性：± 0.1℃
4）適用于不同尺寸樣品
5）加熱器所需安裝空間小,，360°任意位置安裝
6）最小安裝法蘭：CF35
7）適合大氣環(huán)境和（超）高真空工作環(huán)境
8）可手動和自動升溫
激光入射法蘭 激光加熱實拍 激光加熱控制器
功率-溫度曲線
