產(chǎn)品介紹
超高真空磁控濺射系統(tǒng)相對于傳統(tǒng)的磁控濺射系統(tǒng)本底真空更好,，成膜質(zhì)量更高,；并且系統(tǒng)可以與超高真空互聯(lián)系統(tǒng)進(jìn)行對接,；可用于納米級的單層及多層功能膜-各種金屬膜,、半導(dǎo)體膜,、磁性薄膜,、介質(zhì)膜和氧化物薄膜等的生長,。磁控濺射的特點是成膜速率高,，基片溫度低,，膜的粘附性好,，可實現(xiàn)大面積鍍膜。該技術(shù)可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法,。
主要技術(shù)參數(shù)：
1）襯底尺寸：10mm*10mm,、2英寸、3英寸,、4英寸,、6英寸、8英寸
2）襯底加熱溫度室溫至1000℃,，控溫精度±0.1℃,，旋轉(zhuǎn)速率0-30rpm，靶基距可調(diào)范圍100mm
3）集成多個靶槍實現(xiàn)共濺射或直濺射可選,，標(biāo)準(zhǔn)靶或強磁靶可選,，滿足單層和多層薄膜沉積應(yīng)用
4）沉積均勻性優(yōu)于±5%@4英寸(100mm)襯底
5）射頻，直流，脈沖直流和HIPMS等電源可選
6）射本底真空：高真空（10-8Torr量級）或超高真空（10-10Torr量級）可選
7）QCM膜厚在線監(jiān)控
